Stress induced texture formation in surface crystallized SiO2 glass
Stress induced texture formation in surface crystallized SiO2 glass
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表面结晶 SiO2 玻璃中应力诱导织构的形成
作者：
Wisniewski;Berndt;Müller M.;Rüssel
将纯SiO2玻璃的固体样品在1400 °C下退火0.5-8小时，以生长高方石英，其在冷却期间转化为低方石英。使用高达900 °C的X射线衍射和电子背散射衍射（EBSD）分析晶体取向。相变过程中的张力导致表面附近的110和101织构以及主要裂纹周围的局部织构。在整个结晶层（110）中检测到孪晶。未处理表面的EBSD分析是有问题的，因为高度的表面破裂和非常局部化的EBSD图案采集。未检测到覆盖晶体的玻璃皮。
Solid samples of pure SiO2-glass are annealed at 1400 °C for 0.5–8 h in order to grow high-cristobalite which transforms to low-cristobalite during cooling. Crystal orientations are analyzed using X-ray diffraction up to 900 °C and electron backscatter diffraction (EBSD). Tensions during phase transformation lead to 110- and 101-textures near the surface and local textures around major cracks. Throughout the crystallized layer (110)-twins are detected. EBSD-analysis of untreated surfaces is problematic due to a high degree of surface fracturing and very localized EBSD-pattern acquisition. A glass skin covering the crystals was not detected.
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影响因子：
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W. Wisniewski;C. A. Baptista;C. Rüssel
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1976
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--
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A. Wright