BST Thin Film Deposited on Glass Substrate with TISI Nanowire Electrode by RF-Sputtering Method
BST Thin Film Deposited on Glass Substrate with TISI Nanowire Electrode by RF-Sputtering Method
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利用 TISI 纳米线电极通过射频溅射方法在玻璃基板上沉积 BST 薄膜
DOI：
10.1080/00150190902966750
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发表时间：
2009-09
期刊：
影响因子：
0.8
通讯作者：
Ning, Ma
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Mei, Shen;Piyi Du;Wenjian, Weng,;Weimin, Li,;Anhong, Hu;Gaorong, Han;Zhaodi, Ren;Defa, Wei;Ning, Ma
Ferroelectric Ba 0.7 Sr 0.3 TiO 3 (BST) thin film is sputtered on the titanium silicide bottom layer with TiSi nanowires on glass substrate at room temperature and annealed at 450°C for 30 minutes. The phase structure, morphology, dielectric properties of
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作者：
Jun Du;P. Du;Pengxiao Hao;Yanfei Huang;Zhaodi Ren;W. Weng;G. Han;Gaoling Zhao
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作者：
Wencheng Hu;Chuan-ren Yang;Wanli Zhang;Guijun Liu
通讯作者：
Wencheng Hu;Chuan-ren Yang;Wanli Zhang;Guijun Liu
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作者：
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作者：
Xiaoqiang Li;P. Du;Luming Zhu;C. Mak;K. Wong
通讯作者：
Xiaoqiang Li;P. Du;Luming Zhu;C. Mak;K. Wong
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Jingfeng Chen;P. Du;Ying Qin;G. Han;W. Weng
通讯作者：
Jingfeng Chen;P. Du;Ying Qin;G. Han;W. Weng