Si diffusion in magnetron sputtered silicon carbide films deposited on silicon and carbon substrates
Si diffusion in magnetron sputtered silicon carbide films deposited on silicon and carbon substrates
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沉积在硅和碳基底上的磁控溅射碳化硅薄膜中的硅扩散
DOI：
10.1016/j.tsf.2009.06.005
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
H. Schmidt
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
W. Gruber;U. Geckle;M. Bruns;H. Schmidt
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