Micromachining optical arrays
Micromachining optical arrays
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微加工光学阵列
DOI：
10.1109/smicnd.2010.5650215
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
A. James
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
C. Dunare;W. Parkes;T. Stevenson;A. Michette;S. Pfauntsch;M. Shand;T. Button;D. Rodriguez Sanmartin;D. Zhang;C. Feldman;R. Willingale;P. Doel;H. Wang;A. Smith;A. James
本文介绍了两种微结构光学阵列（MOA）的制作技术-干法和湿法刻蚀。金属氧化物避雷器由硅中深蚀刻的通道阵列组成。它们使用掠入射反射将X射线聚焦通过连续对齐的通道阵列，理想情况下，每个阵列中的垂直且光滑的通道壁反射一次。MOA由智能X射线光学（SXO）计划提出，作为用于生物细胞和组织的微探测的小尺度光学器件。第一种制造方法需要使用Bosch工艺的电感耦合等离子体（ICP）。第二种方法是<110>在碱性溶液中蚀刻硅片。
This paper describes two fabrication techniques-dry and wet etching- for microstructured optical arrays (MOAs). The MOAs consist of arrays of channels deep etched in silicon. They use grazing incidence reflection to focus the X-rays through the consecutive aligned arrays of channels, ideally reflecting once off a vertical and smooth channel wall in each array. The MOAs were proposed by the Smart X-ray Optics (SXO) programme as small scale optics for micro-probing of biological cells and tissues. The first fabrication method requires inductively coupled plasma (ICP) using Bosch processes. The second one involves etching <110> silicon wafers in alkaline solutions.
用于X射线光学的蜘蛛微结构光学阵列的开发
DOI：
10.1117/12.860420
发表时间：
2010
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Rodriguez Sanmartin D
通讯作者：
Rodriguez Sanmartin D
影响因子：
1.7
作者：
Dou Zhang;D. Rodriguez-Sanmartin;T. Button;C. Atkins;D. Brooks;P. Doel;C. Dunare;C. Feldman;A. James;A. Michette;W. Parkes;S. Pfauntsch;Shahin Sahraei;T. Stevenson;Hongchang Wang;R. Willingale
通讯作者：
Dou Zhang;D. Rodriguez-Sanmartin;T. Button;C. Atkins;D. Brooks;P. Doel;C. Dunare;C. Feldman;A. James;A. Michette;W. Parkes;S. Pfauntsch;Shahin Sahraei;T. Stevenson;Hongchang Wang;R. Willingale