Pore size control of silica membranes by counter diffusion CVD method
Pore size control of silica membranes by counter diffusion CVD method
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通过反扩散 CVD 方法控制二氧化硅膜的孔径
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Mikihiro Nomura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Katsunori Ishii;Mikihiro Nomura
影响因子：
0.8
作者：
Ikeda, Ayumi;Matsuyama, Emi;Nomura, Mikihiro
通讯作者：
Nomura, Mikihiro
使用 TEOS 化学进行 SiO2 薄膜化学气相沉积动力学的活化能
影响因子：
2.1
作者：
C. Pavelescu;I. Kleps
通讯作者：
I. Kleps
原硅酸四乙酯（TEOS）/O3 和原硅酸四甲酯（TMOS）/O3 反扩散化学气相沉积的反应控制用于制备分子筛膜
DOI：
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发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
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作者：
Takeo Yamaguchi;Xin Ying;Yasuhiko Tokimasa;B. N. Nair;T. Sugawara;Q—Shin
通讯作者：
Q—Shin