Properties of Indium Tin Oxide Thin Films Deposited on Glass and Clay Substrates by Ion-Beam Sputter Deposition Method
Properties of Indium Tin Oxide Thin Films Deposited on Glass and Clay Substrates by Ion-Beam Sputter Deposition Method
复制标题
离子束溅射沉积法在玻璃和粘土基底上沉积的氧化铟锡薄膜的性能
DOI：
--
复制
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
VENKATACHALAM Shanmugam;他
登录
查看更多内容
氮离子注入对ZnSe薄膜结构、光学和电学性能的影响
DOI：
10.1088/0268-1242/21/12/027
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
作者：
S. Venkatachalam;D. Mangalaraj;S. Narayandass;R. Kesavamoorthy;P. Magudapathy;B. Sundaravel;S. Kalavathi;K. Nair
通讯作者：
K. Nair
耐热透明柔性粘土薄膜上 ITO 薄膜的制备与表征
影响因子：
5.4
作者：
H. Tetsuka;T. Ebina;T. Tsunoda;H. Nanjo;F. Mizukami
通讯作者：
F. Mizukami
热溶胶法制备柔性耐热导电透明薄膜
DOI：
10.1016/j.tsf.2006.03.063
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
作者：
H. Usami;A. Nakasa;M. Adachi;E. Suzuki;H. Fujimatsu;T. Ohashi;S. Yamada;Kouhei Tsugita;Y. Taniguchi
通讯作者：
Y. Taniguchi
应力对脉冲激光沉积氧化铟锡薄膜结构的影响
DOI：
10.1023/a:1011224813782
发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
--
作者：
F. O. Adurodija;H. Izumi;T. Ishihara;H. Yoshioka;M. Motoyama
通讯作者：
M. Motoyama
室温下沉积在不同基底上的ITO薄膜的比较研究
DOI：
10.1023/a:1006678809742
发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Chen;Z. Pei;Chia;J. Gong;R. Huang;L. Wen
通讯作者：
L. Wen