Microstructure and He desorption behaviors of He charged FeCrNi-based films fabricated by direct current magnetron sputtering
Microstructure and He desorption behaviors of He charged FeCrNi-based films fabricated by direct current magnetron sputtering
复制标题
直流磁控溅射FeCrNi基He荷电薄膜的微观结构及He脱附行为
DOI：
10.1016/j.tsf.2015.06.041
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发表时间：
2015-08
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
C.S. Liu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
L. Song;X.P.Wang;F. Liu;Y.X. Gao;T. Zhang;G.N. Luo;Q.F. Fang;C.S. Liu
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影响因子：
3.1
作者：
H. Zhang;Z. Yao;Zhangjian Zhou;Man Wang;O. Kaitasov;M. Daymond
通讯作者：
H. Zhang;Z. Yao;Zhangjian Zhou;Man Wang;O. Kaitasov;M. Daymond
影响因子：
3.1
作者：
I. Carvalho;H. Schut;A. Fedorov;N. Luzginova;J. Sietsma
通讯作者：
I. Carvalho;H. Schut;A. Fedorov;N. Luzginova;J. Sietsma
磁控溅射沉积薄膜中掺入氦气的研究
影响因子：
3.4
作者：
Liu, Chao-Zhuo;Shi, L. Q.;Wang, L. B.
通讯作者：
Wang, L. B.
DOI：
10.1007/bf01123345
发表时间：
1982-07
期刊：
Soviet Atomic Energy
影响因子：
--
作者：
A. Nikiforov;A. Zakharov;V. Chuev;A. Zaluzhnyi;Y. Sokurskii;V. D. Onufriev;V. Tebus;A. E. Gorodetskii;V. Alimov;I. Al'tovskii;V. M. Cherednichenko-Alchevskii
通讯作者：
A. Nikiforov;A. Zakharov;V. Chuev;A. Zaluzhnyi;Y. Sokurskii;V. D. Onufriev;V. Tebus;A. E. Gorodetskii;V. Alimov;I. Al'tovskii;V. M. Cherednichenko-Alchevskii
影响因子：
3.1
作者：
Eal H. Lee;L. Mansur
通讯作者：
Eal H. Lee;L. Mansur