Enhanced performance of in-plane transition metal dichalcogenides monolayers by configuring local atomic structures
Enhanced performance of in-plane transition metal dichalcogenides monolayers by configuring local atomic structures
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通过配置局部原子结构增强面内过渡金属二硫属化物单层的性能
DOI：
10.1038/s41467-020-16111-0
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发表时间：
2020-05
影响因子：
16.6
通讯作者：
Fan Hong Jin
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zhou Yao;Zhang Jing;Song Erhong;Lin Junhao;Zhou Jiadong;Suenaga Kazu;Zhou Wu;Liu Zheng;Liu Jianjun;Lou Jun;Fan Hong Jin
面内硫族元素原子的本征活性对过渡金属二硫族化合物（TMD）的催化性能起着重要的作用。局域组态的合理调制是激活面内硫族原子的关键
The intrinsic activity of in-plane chalcogen atoms plays a significant role in the catalytic performance of transition metal dichalcogenides (TMDs). A rational modulation of the local configurations is essential to activating the in-plane chalcogen atoms
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