Micropare x・ray optics using anisotropic wet etching of(110) silicon wafers
Micropare x・ray optics using anisotropic wet etching of(110) silicon wafers
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使用 (110) 硅片各向异性湿法蚀刻的 Micropare X 射线光学器件
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y.Ishisaki ほか
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y.Ezoe;M.Kshiishi;M.Mita;K.Mitsuda;A.Hoshino;Y.Ishisaki ほか
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XEUS X 射线望远镜
DOI：
10.1117/12.670240
发表时间：
2005
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
M. Bavdaz;D. Lumb;P. Gondoin;A. Lyngvi;N. Rando;T. Peacock;T. van der Laan;K. Wallace;A. Mieremet;S. Oemrawsingh;M. Beijersbergen;M. Collon;S. Kraft;R. Graue;D. Kampf;M. Freyberg
通讯作者：
M. Freyberg
MEMS X射线光学器件的研发
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Optics for EUV, X-Ray, Gamma-Ray Astronomy II. Proceedings of the SPIE(Edited by Citterio, Oberto ; O'Dell, Stephen L.) 5900
影响因子：
--
作者：
Y.Ezoe;K.Mitsuda;M.Mita;M.Koshiishi;Y.Ishisaki;K.Shinozaki;A.Hoshino
通讯作者：
A.Hoshino
用于 X 射线应用的微孔光学器件的开发
DOI：
10.1117/12.614939
发表时间：
2005
期刊：
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影响因子：
--
作者：
K. Wallace;M. Collon;M. Bavdaz;M. Beijersbergen;R. Fairbend;J. Séguy;M. Hoffmann;M. Krumrey
通讯作者：
M. Krumrey
在氨溶液中进行超快速各向异性硅蚀刻并产生镜面
DOI：
10.1007/978-3-642-59497-7_144
发表时间：
2001
期刊：
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影响因子：
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作者：
C. Mihalcea;S. Khumpuang;M. Kuwahara;Zhen Yang;R. Maeda;J. Tominaga;N. Atoda
通讯作者：
N. Atoda
使用 Wolter 微通道板光学器件进行 X 射线聚焦
DOI：
10.1016/s0168-9002(02)01059-8
发表时间：
2002
影响因子：
1.4
作者：
G. Price;A. Brunton;M. Beijersbergen;G. Fraser;M. Bavdaz;J. Boutot;R. Fairbend;S. Flyckt;A. Peacock;Enrico Tomaselli
通讯作者：
Enrico Tomaselli