Quantum well states in ultrathin Bi films : Angle-resolved photoemission spectroscopy and first principles calculation study
Quantum well states in ultrathin Bi films : Angle-resolved photoemission spectroscopy and first principles calculation study
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超薄Bi薄膜中的量子阱态：角分辨光电子能谱和第一原理计算研究
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Hasegawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Hirahara;T.Nagao;I.Matsuda;G.Bihlmayer;E.V.Chulkov;Yu.M.Koroteev;S.Hasegawa
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II（Cr、β-Mn、Mo、Rh、Be、石墨、Tl、Zr、Bi、Sb、Sn 和 Beryll）
DOI：
10.1002/andp.19394260204
发表时间：
1939
期刊：
影响因子：
--
作者：
H. Erfling
通讯作者：
H. Erfling
电子-声子耦合强度对 Bi(100) 具有很强的能量依赖性。
影响因子：
8.6
作者：
J. E. Gayone;S. Hoffmann;Z. Li;P. Hofmann
通讯作者：
P. Hofmann
影响因子：
3.3
作者：
T. Hirahara;K. Miyamoto;A. Kimura;Y. Niinuma;G. Bihlmayer;E. Chulkov;T. Nagao;I. Matsuda;S. Qiao;K. Shimada;H. Namatame;M. Taniguchi;S. Hasegawa
通讯作者：
T. Hirahara;K. Miyamoto;A. Kimura;Y. Niinuma;G. Bihlmayer;E. Chulkov;T. Nagao;I. Matsuda;S. Qiao;K. Shimada;H. Namatame;M. Taniguchi;S. Hasegawa
影响因子：
3.7
作者：
Nishide, Akinori;Taskin, Alexey A.;Matsuda, Iwao
通讯作者：
Matsuda, Iwao
影响因子：
3.7
作者：
Hirahara, T.;Nagao, T.;Hasegawa, S.
通讯作者：
Hasegawa, S.