Fluorine etching on the Si(111)-7x7 surfaces using fluorinated fullerene
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使用氟化富勒烯对 Si(111)-7x7 表面进行氟蚀刻
DOI：
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Fujikawa et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshioka;H.;Okubo.M.;Hashizume;H.;Shinno;H.;Y.Fujikawa et al.
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Si(111)-(7 x 7) 表面上分子卤素的直接化学吸附位点选择性。
影响因子：
8.6
作者：
Jensen;Yan;Kummel
通讯作者：
Kummel
场离子扫描隧道显微镜
影响因子：
6.4
作者：
T. Sakurai;T. Hashizume;I. Kamiya;Y. Hasegawa;N. Sano;H. Pickering;A. Sakai
通讯作者：
A. Sakai
Si(100)-2 x 1 上化学吸附氟原子的结构和吸附能学。
DOI：
10.1103/physrevb.45.9065
发表时间：
1992
期刊：
Physical review. B, Condensed matter
影响因子：
--
作者：
Wu;Carter
通讯作者：
Carter
扫描隧道显微镜和高分辨率电子能量损失谱研究氟化C60在Si(111)-(7×7)表面的吸附
影响因子：
1.5
作者：
Y. Fujikawa;J. Sadowski;K. Kelly;K. Nakayama;E. Mickelson;R. Hauge;J. Margrave;T. Sakurai
通讯作者：
T. Sakurai
影响因子：
8.6
作者：
Nakayama, KS;Weaver, JH
通讯作者：
Weaver, JH