Influence of deposition parameters on the optical absorption of amorphous silicon thin films
Influence of deposition parameters on the optical absorption of amorphous silicon thin films
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沉积参数对非晶硅薄膜光吸收的影响
DOI：
10.1103/physrevresearch.2.033308
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发表时间：
2020
影响因子：
4.2
通讯作者：
Hough, Jim
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Terkowski, Lukas;Martin, Iain W.;Axmann, Daniel;Behrendsen, Malte;Pein, Felix;Bell, Angus;Schnabel, Roman;Bassiri, Riccardo;Fejer, Martin M.;Hough, Jim
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影响因子：
8.6
作者：
Xiao Liu;B. White;R. Pohl;E. Iwanizcko;Kim M. Jones;A. Mahan;B. N. Nelson;R. Crandall;S. Vepřek
通讯作者：
Xiao Liu;B. White;R. Pohl;E. Iwanizcko;Kim M. Jones;A. Mahan;B. N. Nelson;R. Crandall;S. Vepřek
吸收率极低的非晶硅：克服引力天文学中的热噪声。
影响因子：
8.6
作者：
Birney R
通讯作者：
Birney R
高反射率涂层机械损失的低温测量和热噪声的估计。
影响因子：
3.6
作者：
M. Granata;K. Craig;G. Cagnoli;C. Carcy;W. Cunningham;J. Degallaix;R. Flaminio;D. Forest;M. Hart;J. Hennig;J. Hough;I. MacLaren;I. Martin;C. Michel;N. Morgado;Salim Otmani;L. Pinard;S. Rowan
通讯作者：
S. Rowan
高级 LIGO
影响因子：
3.5
作者：
Aasi, J.;Abbott, B. P.;Zweizig, J.
通讯作者：
Zweizig, J.
DOI：
--
发表时间：
1977
期刊：
影响因子：
--
作者：
P. Zanzucchi;C. Wronski;D. Carlson
通讯作者：
D. Carlson