Reactivity of Acid Generators for Chemically Amplified Resists with Low-Energy Electrons
Reactivity of Acid Generators for Chemically Amplified Resists with Low-Energy Electrons
复制标题
化学放大抗蚀剂产酸剂与低能电子的反应性
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Shimokawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Nakano;T. Kozawa;S. Tagawa;T. Szreder;J. F. Wishart;T. Kai;T. Shimokawa
影响因子：
3.2
作者：
Toshiaki Aoai;A. Umehara;A. Kamiya;Nobuaki Matsuda;Yoshimasa Aotani
通讯作者：
Yoshimasa Aotani
用于后光学光刻的化学放大抗蚀剂中酸产率对产酸剂的依赖性
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
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作者：
A. Nakano;K. Okamoto;Y. Yamamoto;T. Kozawa;S. Tagawa;T. Kai;H. Nemoto
通讯作者：
H. Nemoto