Dependence of Acid Yield on Acid Generator in Chemically Amplified Resist for Post-Optical Lithography
Dependence of Acid Yield on Acid Generator in Chemically Amplified Resist for Post-Optical Lithography
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用于后光学光刻的化学放大抗蚀剂中酸产率对产酸剂的依赖性
DOI：
--
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H. Nemoto
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Nakano;K. Okamoto;Y. Yamamoto;T. Kozawa;S. Tagawa;T. Kai;H. Nemoto
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DOI：
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期刊：
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影响因子：
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DOI：
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DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics 43
影响因子：
--
作者：
A.Nakano;K.Okamoto;T.Kozawa;S.Tagawa
通讯作者：
S.Tagawa