Magnetic anisotropy in (Tb0.3Dy0.7)45Fe55 amorphous films
Magnetic anisotropy in (Tb0.3Dy0.7)45Fe55 amorphous films
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(Tb0.3Dy0.7)45Fe55非晶薄膜的磁各向异性
DOI：
10.1016/s0304-8853(01)00167-6
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发表时间：
2001-06
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
蒋成保
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
徐惠彬;蒋成保
采用直流磁控溅射法制备了超磁致伸缩（Tb0.3Dy0.7） 45fe55薄膜。通过差示扫描量热法（DSC）研究发现，薄膜的结晶起始温度为407℃。x射线衍射分析证实，薄膜在400℃退火后呈现出非晶相。研究了退火对面内各向异性的影响。当退火温度从200℃增加到400℃时，面内各向异性得到增强。在400°C退火后，Mr/ m10的比值从0.037变化到0.543，其中Mrand m10分别是在10kOe磁场下测量的剩余物和磁化强度。此外，在沉积过程中还施加了预应力，以诱导薄膜的平面内单向各向异性。这可能会导致平面内磁化的各向异性，并导致磁致伸缩的大幅改善。
Giant magnetostrictive (Tb0.3Dy0.7)45Fe55thin films were prepared by direct current (DC) magnetron sputtering. The onset temperature of crystallization of the films is found to be 407°C through differential scanning calorimetery (DSC) studies. X-ray diffraction analysis confirms that the films exhibit an amorphous phase after annealing at 400°C. The effect of annealing on the in-plane anisotropy was investigated. The in-plane anisotropy is enhanced upon increasing the annealing temperature from 200°C to 400°C. The ratio Mr/M10is varied from 0.037 for the as-deposited sample to 0.543 after annealing at 400°C, where Mrand M10refer to remanence and magnetization measured at the field of 10kOe, respectively. In addition, pre-stress was also applied during deposition to induce an in-plane unidirectional anisotropy in the films. This may result in an anisotropy of the in-plane magnetization and lead to a large improvement of magnetostriction.
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影响因子：
3.2
作者：
HONDA, T;ARAI, KI;YAMAGUCHI, M
通讯作者：
YAMAGUCHI, M
DOI：
10.1109/20.619622
发表时间：
1997-04
期刊：
1997 IEEE International Magnetics Conference (INTERMAG'97)
影响因子：
--
作者：
S. Lim;Y. Choi;S.H. Han;S.R. Lee;H. Kim;T. Shima;H. Fujimori
通讯作者：
S. Lim;Y. Choi;S.H. Han;S.R. Lee;H. Kim;T. Shima;H. Fujimori
影响因子：
3.2
作者：
SCHATZ, F;HIRSCHER, M;KRONMULLER, H
通讯作者：
KRONMULLER, H
影响因子：
3.2
作者：
P. Grundy;D. G. Lord;P. I. Williams
通讯作者：
P. Grundy;D. G. Lord;P. I. Williams
影响因子：
3.2
作者：
E. Quandt
通讯作者：
E. Quandt