Development of Cavity Structure for Field Emission on Si Substrate
Development of Cavity Structure for Field Emission on Si Substrate
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硅基片场致发射腔体结构的研制
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Daiji Noda;et al.
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用于平板显示器的吸气剂
DOI：
10.1109/jproc.2002.1002526
发表时间：
2002
期刊：
Proc. IEEE
影响因子：
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作者：
S. Tominetti;M. Amiotti
通讯作者：
M. Amiotti
影响因子：
4
作者：
J. M. Macaulay;I. Brodie;C. Spindt;C. Holland
通讯作者：
C. Holland
局部真空封装蒸发型吸气剂的制作
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
The Japan Society of Applied Physics (The 66rd Fall meeting) No.2
影响因子：
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作者：
Masanori Hatakeyama;Kazuaki Sawada;Daiji Noda;Hidekuni Takao;Kazuaki Sawada;Makoto Ishida
通讯作者：
Makoto Ishida
一种新型场发射体阵列结构
DOI：
10.1109/ivmc.1995.487000
发表时间：
1995
期刊：
IVMC '95. Eighth International Vacuum Microelectronics Conference. Technical Digest (Cat. No.TH8012)
影响因子：
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作者：
Shigeo Itoh;T. Niiyama;M. Taniguchi;Teruo Watanabe
通讯作者：
Teruo Watanabe