Effect of Fluorine Atom on Acid Generation in Chemically Amplified EUV Resist
Effect of Fluorine Atom on Acid Generation in Chemically Amplified EUV Resist
复制标题
氟原子对化学放大型 EUV 光刻胶中酸生成的影响
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Onodera
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;S. Tagawa;H. Yukawa;M. Sato;J. Onodera
化学放大极紫外光刻胶模型系统中的产酸效率
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. B
影响因子：
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作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;H. Oizumi;I. Nishiyama
通讯作者：
I. Nishiyama
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Journal of Vacuum Science ＆. Technology B. 24
影响因子：
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作者：
Hiroki Yamamoto;Takahiro Kozawa;Kazumasa Okamoto;Akinori Saeki;Seiichi Tagawa;Tomoyuki Ando;Mitsuru Sato;Hiroji Komano
通讯作者：
Hiroji Komano
化学放大极紫外光刻胶中酸生成的聚合物结构依赖性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
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作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;S. Tagawa;H. B. Cao;H. Deng;M. J. Leeson
通讯作者：
M. J. Leeson