Reaction mechanism of fluorinated chemichally amplified resists
Reaction mechanism of fluorinated chemichally amplified resists
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氟化化学放大抗蚀剂的反应机理
DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
Hiroji Komano
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Hiroki Yamamoto;Takahiro Kozawa;Kazumasa Okamoto;Akinori Saeki;Seiichi Tagawa;Tomoyuki Ando;Mitsuru Sato;Hiroji Komano
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影响因子:
2.9
作者:
D. B. Naik;H. Mohan
通讯作者:
H. Mohan
影响因子:
0.8
作者:
S. Tsuji;T. Kozawa;Yukio Yamamoto*;S. Tagawa
通讯作者:
S. Tagawa
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
J. Vac. Sci. Technol. B
影响因子:
--
作者:
H. Yamamoto;T. Kozawa;A. Nakano;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Ando;M. Sato;H. Komano
通讯作者:
H. Komano
影响因子:
3.2
作者:
H. Shiraishi;Y. Taniguchi;S. Horigome;S. Nonogaki
通讯作者:
S. Nonogaki
DOI:
10.2494/photopolymer.16.523
发表时间:
2003-01-01
影响因子:
0.8
作者:
Ito, H;Truong, HD;DiPietro, RA
通讯作者:
DiPietro, RA