Acid generation efficiency in a model system of chemically amplified extreme ultraviolet resist
Acid generation efficiency in a model system of chemically amplified extreme ultraviolet resist
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化学放大极紫外光刻胶模型系统中的产酸效率
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
I. Nishiyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;H. Oizumi;I. Nishiyama
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影响因子：
3.5
作者：
A. Saeki;T. Kozawa;S. Tagawa;H. B. Cao
通讯作者：
H. B. Cao
NTT超导存储环—Super-ALIS
影响因子：
1.6
作者：
T. Hosokawa;Kitayama Toyoki;T. Hayasaka;Ido Satoshi;Y. Uno;A. Shibayama;J. Nakata;K. Nishimura;Nakajima Masayuki
通讯作者：
Nakajima Masayuki
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0.8
作者：
H. Oizumi;Yuusuke Tanaka;D. Shiono;T. Hirayama;H. Hada;J. Onodera;A. Yamaguchi;I. Nishiyama
通讯作者：
I. Nishiyama
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DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
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作者：
A. Nakano;T. Kozawa;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
鎓盐的光化学和光物理学
DOI：
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发表时间：
1993
期刊：
影响因子：
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作者：
R. J. Devoe;P. Olofson;M. Sahyun
通讯作者：
M. Sahyun