Validation of thin film TiO2 optical constants by reflectometry and ellipsometry in the VUV spectral range
Validation of thin film TiO2 optical constants by reflectometry and ellipsometry in the VUV spectral range
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在 VUV 光谱范围内通过反射法和椭圆光度法验证薄膜 TiO2 光学常数
DOI：
10.1088/1361-6501/ab0359
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发表时间：
2019
影响因子：
2.4
通讯作者：
Mathias Richter
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Alexander Gottwald;Karl Wiese;Thomas Siefke;Mathias Richter
薄膜在真空紫外光谱范围内的光学常数通常并不精确，因为不仅实验测定困难，而且结果取决于样品的制备。我们比较了在130 nm和226 nm之间的波长间隔的测量，使用反射法和椭圆偏振法，特别是考虑到他们各自的不确定性预算。由于这两种方法都需要数值分析，以获得从测量数据的光学常数，特别注意通过计算例程的误差传播，以及数值方法和模型本身引入的不确定性。测量方法被施加到一个6 nm的二氧化钛（TiO 2）在硅衬底上的薄层。结果用于验证我们的方法，并确定进一步的分析要求。
Optical constants of thin films in the vacuum ultraviolet spectral range are often not precisely known, since not only the experimental determination is difficult, but also the results depend on the sample preparation. We compared measurements in the wavelength interval between 130 nm and 226 nm using reflectometry and ellipsometry with particular regard to their respective uncertainty budgets. Since for both methods a numerical analysis is required to obtain the optical constants from the measured data, particular attention was paid to the error propagation through the calculation routines, and the uncertainties introduced by the numerical methods and models themselves. The measurement methods were applied to a thin layer of 6 nm titania (TiO 2) on a silicon substrate. The result is used to validate our method, and to identify further analytical requirements.
一种基于同步辐射的可变角椭偏仪，适用于可见光到真空紫外光谱范围。
DOI：
10.1063/1.4878919
发表时间：
2014
期刊：
The Review of scientific instruments
影响因子：
--
作者：
M. Neumann;C. Cobet;H. Kaser;M. Kolbe;A. Gottwald;M. Richter;N. Esser
通讯作者：
N. Esser
计量光源中基于紫外线和真空紫外线探测器的辐射测量
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
作者：
A. Gottwald;U. Kroth;M. Richter;Hendrik Schöppe;G. Ulm
通讯作者：
G. Ulm
影响因子：
9
作者：
Siefke, Thomas;Kroker, Stefanie;Tuennermann, Andreas
通讯作者：
Tuennermann, Andreas