Carbon thin film deposition for 3-dimensional structures using r.f. plasma CVD
Carbon thin film deposition for 3-dimensional structures using r.f. plasma CVD
复制标题
使用射频沉积 3 维结构的碳薄膜
DOI：
--
复制
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y. Ohgoe
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K. Kanasugi;Y. Ohgoe;K. Tsuchimoto;K. Sato;K. K. Hirakuri;O. Miyashita;A. Funakubo;and Y. Fukui;Y. Ohgoe
登录
查看更多内容
影响因子：
3.2
作者：
Y. Ohgoe;K. Hirakuri
通讯作者：
Y. Ohgoe;K. Hirakuri
影响因子：
4.1
作者：
J. Robertson
通讯作者：
J. Robertson
超薄类金刚石碳膜的微尺度磨损性能
影响因子：
1.5
作者：
K. Shimura;K. Baba
通讯作者：
K. Baba
影响因子：
5.4
作者：
Y. Ohgoe;K. Hirakuri;K. Tsuchimoto;G. Friedbacher;O. Miyashita
通讯作者：
Y. Ohgoe;K. Hirakuri;K. Tsuchimoto;G. Friedbacher;O. Miyashita
电子束激发等离子体化学气相沉积沉积类金刚石碳薄膜
影响因子：
4.1
作者：
Masahito Ban;M. Ryoji;T. Hasegawa;Yuki Mori;S. Fujii;J. Fujioka
通讯作者：
J. Fujioka