エピタキシャルZnO 薄膜/Al2O3 の歪制御によるゼーベック係数増大
エピタキシャルZnO 薄膜/Al2O3 の歪制御によるゼーベック係数増大
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通过外延 ZnO 薄膜/Al2O3 应变控制提高塞贝克系数
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中村芳明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小松原祐樹;石部貴史;大江純一郎;中村芳明
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