Effects of vicinal angles from(001)surface on the boron-doping features of high-quality homoepitaxial diamond films grown by the high-power microwave plasma chemical-vapor-deposition method
Effects of vicinal angles from(001)surface on the boron-doping features of high-quality homoepitaxial diamond films grown by the high-power microwave plasma chemical-vapor-deposition method
复制标题
(001)面邻角对高功率微波等离子体化学气相沉积高质量同质外延金刚石薄膜硼掺杂特性的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T. Terajiand T. Ito
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K. Arima;H. Miyatake;T. Terajiand T. Ito
登录
查看更多内容
在高甲烷浓度下生长的无小丘同质外延金刚石 (100) 薄膜
影响因子：
1.5
作者：
M. Hamada;T. Teraji;T. Ito
通讯作者：
T. Ito
进一步提高同质外延CVD金刚石的高结晶质量
影响因子：
4.1
作者：
H. Miyatake;K. Arima;O. Maida;T. Teraji;T. Ito
通讯作者：
T. Ito
使用三甲基硼的高质量 B 掺杂同质外延金刚石薄膜
影响因子：
1.5
作者：
S. Yamanaka;H. Watanabe;S. Masai;D. Takeuchi;H. Okushi;K. Kajimura
通讯作者：
K. Kajimura
高品质化学气相沉积金刚石上同质外延生长的掺硼金刚石薄膜 (100)
影响因子：
1.5
作者：
Chun;M. Irie;K. Kimura;T. Teraji;T. Ito
通讯作者：
T. Ito
高功率微波等离子体化学气相沉积法生长高品质硼掺杂同质外延金刚石
影响因子：
3.2
作者：
T. Teraji;K. Arima;H. Wada;T. Ito
通讯作者：
T. Ito