Advances in optical and magnetooptical scatterometry of periodically ordered nanostructured arrays
Advances in optical and magnetooptical scatterometry of periodically ordered nanostructured arrays
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周期性有序纳米结构阵列的光学和磁光散射测量的进展
DOI：
10.1155/2013/621531
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发表时间：
2013
影响因子：
--
通讯作者：
R. Antoš
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Veis;R. Antoš
我们回顾了最近的进展，光学和磁光（MO）散射测量应用于周期性有序的纳米结构，如周期性图案化的线，线，点，或孔。该技术是基于椭圆偏振光谱（SE），无论是在基本模式或广义模式，穆勒矩阵偏振，MO光谱主要基于MO克尔效应测量。我们简要介绍了实验装置，常用的理论方法，并通过SE和MO光谱分析的各种样品所获得的实验结果。回顾分析主要涉及监测光学关键尺寸，如宽度，深度和周期的图案化元素，它们的真实的形状，和它们的线边缘或线宽粗糙度。我们还讨论了光学光谱技术的优点和缺点相比，直接监测技术。
We review recent advances in optical and magnetooptical (MO) scatterometry applied to periodically ordered nanostructures such as periodically patterned lines, wires, dots, or holes. The techniques are based on spectroscopic ellipsometry (SE), either in the basic or generalized modes, Mueller matrix polarimetry, and MO spectroscopy mainly based on MO Kerr effect measurements. We briefly present experimental setups, commonly used theoretical approaches, and experimental results obtained by SE and MO spectroscopic analyses of various samples. The reviewed analyses are mainly related to monitoring optical critical dimensions such as the widths, depths, and periods of the patterned elements, their real shapes, and their line edge or linewidth roughness. We also discuss the advantages and disadvantages of the optical spectroscopic techniques compared to direct monitoring techniques.
衍射磁光光谱评价坡莫合金光栅的质量
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
Opt. Express 13
影响因子：
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作者：
R.Antos;J.Mistrik;T.Yamaguchi;S.Visnovsky;S.O.Demokritov;B.Hillebrands
通讯作者：
B.Hillebrands
不同材料光栅上光谱椭圆偏振测量临界尺寸的收敛特性
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
J. Appl. Phys. 100
影响因子：
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作者：
R.Antos;J.Pistora;J.Mistrik;T.Yamaguchi;S.Yamaguchi;M.Horie;S.Visnovsky;Y.Otani
通讯作者：
Y.Otani
图案化磁结构的光学计量：深光栅与浅光栅
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Proc. SPIE. (San Jose, Feb. 17-May 2005)(667)(14) 5752(国際会議プロシーディングス)
影响因子：
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作者：
R.Antos;M.Veis;E.Liskova;M.Aoyama;J.Hamrle;T.Kimura;P.Gustafik;M.Horie;J.Mistrik;T.Yamaguchi;S.Visnovsky;N.Okamoto
通讯作者：
N.Okamoto