Improvement of C-aixs preferred orientation of CoCr-based thin film with amorphous Si underlayer

Improvement of C-aixs preferred orientation of CoCr-based thin film with amorphous Si underlayer
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非晶硅底层 CoCr 基薄膜 C 轴择优取向的改进

DOI:
--
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发表时间:
2003
影响因子:
5.4
通讯作者:
K.H.Kim
K.H.Kim
中科院分区:
材料科学1区
文献类型:
--
作者:
Y.H.Kim;W.H.Park;S.H.Kong;S.Nakagawa;K.H.Kim

文献摘要

参考文献

被引文献

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