Tribological properties of boron nitride films deposited by nanopulse plasma CVD method
Tribological properties of boron nitride films deposited by nanopulse plasma CVD method
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纳脉冲等离子体CVD法沉积氮化硼薄膜的摩擦学性能
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Naoto Ohtake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masanori Saito;Takao Saito;Hiroya Murakami;Naoto Ohtake
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DOI：
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发表时间：
1990
期刊：
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J. Monties;T. Mesana;P. Havlík;J. Trinkl;J. Demunck;B. Candelon
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B. Candelon
金属和无机涂层的测试
DOI：
10.1520/stp947-eb
发表时间：
1987
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发表时间：
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作者：
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通讯作者：
K. Subramanian
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发表时间：
1990
期刊：
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作者：
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通讯作者：
H. Miyadera