Aligned silica nanowires on the inner wall of bubble-like silica film: the growth mechanism and photoluminescence

Aligned silica nanowires on the inner wall of bubble-like silica film: the growth mechanism and photoluminescence
复制标题

气泡状二氧化硅薄膜内壁上排列的二氧化硅纳米线:生长机制和光致发光

DOI:
10.1088/0957-4484/17/4/029
复制
发表时间:
2006-02
期刊:
影响因子:
3.5
通讯作者:
徐亮
徐亮
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
--
作者:
陈翌庆;周庆涛;蒋海峰;苏勇;肖海花;朱黎昂;徐亮

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

采用热蒸发法将熔融的镓硅合金置于氨气中,在气泡状二氧化硅薄膜的内壁上生长出大面积、定向排列的非晶二氧化硅纳米线。这些纳米线的直径为10-20 nm,长度为0.5-1.5 µm。
Large area, aligned amorphous silica nanowires grow on the inner wall of bubble-like silica film, which is prepared by thermal evaporation of a molten gallium–silicon alloy in a flow of ammonia. These nanowires are 10–20 nm in diameter and 0.5–1.5 µm in l
DOI: 10.1016/0038-1098(95)00650-8
发表时间: 1996-01-01
影响因子: 2.1
作者:
Lin, J;Yao, GQ;Qin, GG
通讯作者: Qin, GG
DOI: 10.1016/s0009-2614(01)00063-x
发表时间: 2001-03
影响因子: 2.8
作者:
Xingcai Wu;W. Song;Kaiyou Wang;T. Hu;B. Zhao;Y. Sun;Jiaju Du
通讯作者: Xingcai Wu;W. Song;Kaiyou Wang;T. Hu;B. Zhao;Y. Sun;Jiaju Du
DOI: 10.1002/1521-4095(20020116)14:2
发表时间: 2002-01
期刊: Advanced Materials
影响因子: 29.4
作者:
Qianwang Chen;Xiaoguang Li;Yuheng Zhang;Y. Qian
通讯作者: Qianwang Chen;Xiaoguang Li;Yuheng Zhang;Y. Qian
DOI: 10.1063/1.116554
发表时间: 1996-02
影响因子: 4
作者:
L. Liao;X. Bao;Xiang-Qin Zheng;Ning-Sheng Li;Naiben Min
通讯作者: L. Liao;X. Bao;Xiang-Qin Zheng;Ning-Sheng Li;Naiben Min
DOI: 10.1038/354056a0
发表时间: 1991-11-07
期刊: NATURE
影响因子: 64.8
作者:
IIJIMA, S
通讯作者: IIJIMA, S