Nickel Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering Using O_2+H_2O Mixed Gas
Nickel Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering Using O_2+H_2O Mixed Gas
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O_2 H_2O混合气体反应溅射制备羟基氧化镍薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Itoh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Ueta;Y. Abe;K. Kato;M. Kawamura;K. Sasaki;H. Itoh
DOI：
10.1143/jjap.33.6656
发表时间：
1994-12-01
期刊：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
影响因子：
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作者：
KITAO, M;IZAWA, K;YAMADA, S
通讯作者：
YAMADA, S
O2H2O混合气体反应溅射制备含氢Ta2O5薄膜
影响因子：
1.5
作者：
Y. Abe;Naruhiro Itadani;M. Kawamura;K. Sasaki;H. Itoh
通讯作者：
H. Itoh