Single crystalline diamond grown by repositioning substrate in DC arcjet plasma enhanced chemical vapor deposition

Single crystalline diamond grown by repositioning substrate in DC arcjet plasma enhanced chemical vapor deposition
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通过在直流电弧喷射等离子体增强化学气相沉积中重新定位基底来生长单晶金刚石

DOI:
10.1016/j.diamond.2011.10.009
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发表时间:
2012
期刊:
DIAMOND AND RELATERD MATERIALS
影响因子:
--
通讯作者:
Z.Q. Yan
Z.Q. Yan
中科院分区:
其他
文献类型:
--
作者:
G.C. Chen;F.X. Lu;B. Li;Z.Q. Yan

文献摘要

参考文献

被引文献

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