Single crystalline diamond grown by repositioning substrate in DC arcjet plasma enhanced chemical vapor deposition
Single crystalline diamond grown by repositioning substrate in DC arcjet plasma enhanced chemical vapor deposition
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通过在直流电弧喷射等离子体增强化学气相沉积中重新定位基底来生长单晶金刚石
DOI:
10.1016/j.diamond.2011.10.009
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
Z.Q. Yan
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
G.C. Chen;F.X. Lu;B. Li;Z.Q. Yan
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DOI:
10.1016/j.diamond.2009.10.009
发表时间:
2010
期刊:
DIAMOND AND RELATERD MATERIALS
影响因子:
--
作者:
C.M. Li;W.Z. Tang;G.C. Chen;B. Li;F.X. Lu;H. Li
通讯作者:
H. Li
影响因子:
3.9
作者:
N. Ohtake;M. Yoshikawa
通讯作者:
N. Ohtake;M. Yoshikawa
影响因子:
4.6
作者:
C. Kuo;Jinyou Wu;C. Lin;T. Lu;C. Sung
通讯作者:
C. Kuo;Jinyou Wu;C. Lin;T. Lu;C. Sung
影响因子:
4.1
作者:
G. Lu;K. J. Gray;E. Borchelt;L. Bigelow;J. Graebner
通讯作者:
G. Lu;K. J. Gray;E. Borchelt;L. Bigelow;J. Graebner
影响因子:
4.1
作者:
A. R. Davies;J. Field;K. Takahashi;K. Hada
通讯作者:
A. R. Davies;J. Field;K. Takahashi;K. Hada