Small SiGe quantum dots obtained by excimer laser annealing
Small SiGe quantum dots obtained by excimer laser annealing
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准分子激光退火获得的小型SiGe量子点
DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2008.05.052
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发表时间：
2008-08
影响因子：
1.8
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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影响因子：
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通讯作者：
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通讯作者：
J. Tersoff;F. Legoues
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通讯作者：
Williams, RS