A Fast Lithographic Mask Manufacturing Cost Aware Optical Proximity Correction (OPC) Algorithm With Process Variability Consideration
A Fast Lithographic Mask Manufacturing Cost Aware Optical Proximity Correction (OPC) Algorithm With Process Variability Consideration
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一种考虑工艺变异性的快速光刻掩模制造成本感知光学邻近校正 (OPC) 算法
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Chikaaki Kodama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ahmed Awad;Atsushi Takahashi;Chikaaki Kodama
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对 OPC 复杂性进行建模以实现可制造性设计
影响因子：
2.7
作者：
Puneet Gupta;A. Kahng;S. Muddu;S. Nakagawa;Chul
通讯作者：
Chul
使用 MEEF 矩阵 II 的基于模型的 OPC
DOI：
10.1117/12.2046635
发表时间：
2014
期刊：
2014 51st ACM/EDAC/IEEE Design Automation Conference (DAC)
影响因子：
--
作者：
Junjiang Lei;Le Hong;George Lippincott;J. Word
通讯作者：
J. Word
改善图像斜率和处理窗口的 OPC 方法
DOI：
10.1117/12.515190
发表时间：
2003
期刊：
2012 IEEE International Conference on IC Design & Technology
影响因子：
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作者：
Nicolas B. Cobb;Y. Granik
通讯作者：
Y. Granik
DOI：
10.1145/2593069.2593163
发表时间：
2014-06
期刊：
2014 51st ACM/EDAC/IEEE Design Automation Conference (DAC)
影响因子：
--
作者：
Jhih-Rong Gao;Xiaoqing Xu;Bei Yu;D. Pan
通讯作者：
Jhih-Rong Gao;Xiaoqing Xu;Bei Yu;D. Pan
工艺窗口 OPC 可减少工艺变异性并提高产量
DOI：
10.1117/12.656835
发表时间：
2006
期刊：
2012 IEEE International Conference on IC Design & Technology
影响因子：
--
作者：
A. Krasnoperova;J. Culp;Ioana Graur;S. Mansfield;M. Al;H. Maaty
通讯作者：
H. Maaty