Room-temperature epitaxy of metal thin films on tungsten diselenide
Room-temperature epitaxy of metal thin films on tungsten diselenide
复制标题
二硒化钨上金属薄膜的室温外延
DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2018.09.040
复制
发表时间：
2019
影响因子：
1.8
通讯作者：
Mohney, Suzanne E.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Cooley, Kayla A.;Alsaadi, Rajeh;Gurunathan, Ramya L.;Domask, Anna C.;Kerstetter, Lauren;Saidi, Wissam A.;Mohney, Suzanne E.
登录
查看更多内容
金属/GaAs 界面的稳定性：相图调查
DOI：
--
发表时间：
1988
期刊：
影响因子：
--
作者：
R. Schmid
通讯作者：
R. Schmid
辉钼矿基底上外延金核的角度分布与基底温度和核尺寸的函数关系
DOI：
--
发表时间：
1968
期刊：
影响因子：
--
作者：
W. Jesser;D. Kuhlmann
通讯作者：
D. Kuhlmann
辉钼矿上蒸发银晶体生长的电子显微镜研究
DOI：
--
发表时间：
1961
期刊：
影响因子：
--
作者：
Y. Kamiya;R. Uyeda
通讯作者：
R. Uyeda
肖特基势垒高度——我们真的了解我们测量的东西吗？
DOI：
--
发表时间：
1993
期刊：
影响因子：
--
作者：
R. T. Tung
通讯作者：
R. T. Tung
DOI：
10.1007/0-306-47126-4
发表时间：
2002
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
H. Hughes;H. Starnberg
通讯作者：
H. Hughes;H. Starnberg