Tuning the properties of VO2 thin films through growth temperature for infrared and terahertz modulation applications
Tuning the properties of VO2 thin films through growth temperature for infrared and terahertz modulation applications
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通过生长温度调节 VO2 薄膜的特性，用于红外和太赫兹调制应用
DOI：
10.1063/1.4821846
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发表时间：
2013-09
影响因子：
3.2
通讯作者：
Fan, Zhaoyang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zhu, Yanhan;Holtz, Mark;Bernussi, Ayrton;Fan, Zhaoyang
本文报道了通过控制衬底生长温度（Ts）来调节溅射沉积二氧化钒（VO2）薄膜的电学和光学性能的研究结果。从550℃到700℃，随着Ts的增加，形貌由粒状变为s型
Results are reported on tuning the electrical and optical properties of sputter-deposited vanadium dioxide (VO2) thin films through control of substrate growth temperature (Ts). As Ts increases from 550 to 700 °C, the morphology changes from granular to s
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