オニウムアミドを用いたC(sp3)-H脱プロトン化ー修飾反応の開発
オニウムアミドを用いたC(sp3)-H脱プロトン化ー修飾反応の開発
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使用鎓酰胺开发 C(sp3)-H 去质子化修饰反应
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
根東義則
中科院分区：
文献类型：
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作者：
稲本浄文;種田宏;吉川晶子;根東義則
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DOI：
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发表时间：
1966
期刊：
影响因子：
--
作者：
L. Eberson;K. Nyberg
通讯作者：
K. Nyberg
影响因子：
5.2
作者：
Shanxue Zhang;Yufeng Li;Tao Wang;Ming Li;Lirong Wen;Weisi Guo
通讯作者：
Shanxue Zhang;Yufeng Li;Tao Wang;Ming Li;Lirong Wen;Weisi Guo
DOI：
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发表时间：
1967
期刊：
影响因子：
--
作者：
L. Eberson
通讯作者：
L. Eberson
DOI：
10.1002/anie.201711060
发表时间：
2018-05-14
期刊：
Angewandte Chemie (International ed. in English)
影响因子：
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作者：
Wiebe A;Gieshoff T;Möhle S;Rodrigo E;Zirbes M;Waldvogel SR
通讯作者：
Waldvogel SR
DOI：
10.1002/anie.201707584
发表时间：
2018-04-09
期刊：
Angewandte Chemie (International ed. in English)
影响因子：
--
作者：
Yan M;Kawamata Y;Baran PS
通讯作者：
Baran PS