Ion conducting Properties of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films Prepared by Reactive Sputtering
Ion conducting Properties of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films Prepared by Reactive Sputtering
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反应溅射制备含氢Ta_2O_5薄膜的离子导电性能
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Itoh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Abe;N. Itadani;M. Kawamura;K. Sasaki;H. Itoh
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DOI：
10.1143/jjap.33.6656
发表时间：
1994-12-01
期刊：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
影响因子：
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作者：
KITAO, M;IZAWA, K;YAMADA, S
通讯作者：
YAMADA, S
过氧聚钽酸盐溶液旋涂Ta2O5·nH2O非晶薄膜的质子电导率
影响因子：
3.2
作者：
Y. Sone;A. Kishimoto;T. Kudo
通讯作者：
T. Kudo
O2H2O混合气体反应溅射制备含氢Ta2O5薄膜
影响因子：
1.5
作者：
Y. Abe;Naruhiro Itadani;M. Kawamura;K. Sasaki;H. Itoh
通讯作者：
H. Itoh
质子导电Ta2O5·nH2O薄膜普鲁士蓝可逆电致变色性能
影响因子：
3.2
作者：
Y. Sone;A. Kishimoto;T. Kudo;Kotaro Ikeda
通讯作者：
Kotaro Ikeda