Definition of 15nm half pitch grating structures by electron beam lithography double exposure techniques
Definition of 15nm half pitch grating structures by electron beam lithography double exposure techniques
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利用电子束光刻双曝光技术定义15nm半节距光栅结构
DOI：
10.1016/j.mee.2013.04.013
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发表时间：
2013
影响因子：
2.3
通讯作者：
H. Kurz
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
J. Bolten;N. Koo;T. Wahlbrink;H. Kurz
优化的标记定义，实现高重叠精度电子束光刻
DOI：
--
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
作者：
J. Moers;S. Trellenkamp;D. Grützmacher;A. Offenhäusser;B. Rienks
通讯作者：
B. Rienks
氢倍半硅氧烷抗蚀剂中的亚 5keV 电子束光刻
DOI：
--
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
作者：
V. Manfrinato;L. Cheong;H. Duan;D. Winston;Henry I. Smith;K. Berggren
通讯作者：
K. Berggren