Deposition of PMDA-TFDB type polyimide onto microscale trenches patterned on silicon wafer using supercritical carbon dioxide
Deposition of PMDA-TFDB type polyimide onto microscale trenches patterned on silicon wafer using supercritical carbon dioxide
复制标题
使用超临界二氧化碳将 PMDA-TFDB 型聚酰亚胺沉积到硅片上图案化的微型沟槽上
DOI：
10.1016/j.supflu.2017.03.008
复制
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Shigeki Takishima
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Masashi Haruki;Atsuhiko Wasada;Yuki Hosokawa;Shin-ichi Kihara;Shigeki Takishima
登录
查看更多内容
影响因子：
3
作者：
Masashi Haruki;A. Oda;Atsuhiko Wasada;Y. Hasegawa;S. Kihara;Shigeki Takishima
通讯作者：
Masashi Haruki;A. Oda;Atsuhiko Wasada;Y. Hasegawa;S. Kihara;Shigeki Takishima
超临界二氧化碳中沉积芳香族聚酰亚胺薄膜
影响因子：
3.9
作者：
Masashi Haruki;Y. Hasegawa;N. Fukui;S. Kihara;Shigeki Takishima
通讯作者：
Shigeki Takishima
使用超临界二氧化碳在微观空间内沉积 ODA-PMDA 类型的聚酰亚胺薄膜
影响因子：
3.9
作者：
Masashi Haruki;Y. Hasegawa;S. Kihara;Shigeki Takishima
通讯作者：
Shigeki Takishima
N,N-二甲基甲酰胺夹带剂对芳香族聚酰亚胺单体在超临界二氧化碳中溶解度的影响
影响因子：
4.2
作者：
Masashi Haruki;N. Fukui;Fumiya Kobayashi;S. Kihara;Shigeki Takishima
通讯作者：
Shigeki Takishima
气相沉积无溶剂聚酰亚胺薄膜
DOI：
10.1116/1.573930
发表时间：
1986
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
J. Salem;F. Sequeda;J. Duran;Wen;R. Yang
通讯作者：
R. Yang