Expansion of Scaling Law of Field Aligned Potential Difference with Increased Plug ECRH Power in GAMMA 10.
Expansion of Scaling Law of Field Aligned Potential Difference with Increased Plug ECRH Power in GAMMA 10.
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随着 GAMMA 10 中插头 ECRH 功率的增加，场对准电势差的缩放定律得到扩展。
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
et al.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T.Saito;Y.Tatematsu;H.Ikegami;T.Sekine;et al.
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GAMMA 10 串联镜中的等离子体限制
DOI：
10.2978/jsas.14.139
发表时间：
1999
期刊：
Journal of Advanced Science
影响因子：
--
作者：
K. Yatsu;T. Cho;H. Higaki;M. Hirata;H. Hojo;M. Ichimura;K. Ishii;M. K. Islam;A. Itakura;I. Katanuma;J. Kohagura;Y. Nakashima;T. Saito;Y. Tatematsu;M. Yoshikawa
通讯作者：
M. Yoshikawa
使用偏置网格抑制来自串联镜端板的二次电子
影响因子：
2.2
作者：
T. Saito;Y. Kiwamoto;Y. Tatematsu;Y. Yoshimura;T. Takahashi;M. Inutake;T. Tamano
通讯作者：
T. Tamano
影响因子：
1.1
作者：
S. Dean
通讯作者：
S. Dean
与电子流控制相关的 GAMMA10 串联镜端部区域的电势分布
影响因子：
1.7
作者：
Y. Yoshimura;T. Saito;Y. Kiwamoto;Y. Tatematsu;K. Kajiwara;Hidetoshi Miyaue;H. Abe;T. Tamano
通讯作者：
T. Tamano
沿镜面结构磁场线的等离子体流中电子回旋共振修改的电势结构
影响因子：
8.6
作者：
T. Kaneko;R. Hatakeyama;N. Sato
通讯作者：
N. Sato