Passivation of interfacial defects at III-V oxide interfaces
Passivation of interfacial defects at III-V oxide interfaces
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III-V族氧化物界面处的界面缺陷的钝化
DOI：
10.1116/1.4710513
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Lin L
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Lin L
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DOI：
--
发表时间：
1982
期刊：
影响因子：
--
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通讯作者：
J. Dow
DOI：
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发表时间：
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期刊：
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通讯作者：
P. Ye
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通讯作者：
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通讯作者：
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