Preparation of Epitaxial LiNbO_3 Thin Film by MOCVD and Its Properties
Preparation of Epitaxial LiNbO_3 Thin Film by MOCVD and Its Properties
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MOCVD外延LiNbO_3薄膜的制备及其性能
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kazuo Shinozaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Rintarou Morohashi;Naoki Wakiya;Takanori Kiguchi;Tomohiko Yoshioka;Junzo Tanaka;Kazuo Shinozaki
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“激光分子束外延法室温生长 AIN/TiN 外延多层”固体薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
Thin Solid Films 516
影响因子：
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作者：
Miao Zhang;・広川 二郎・安藤 真;Wakana Hara;Wakana Hara
通讯作者：
Wakana Hara
溶胶-凝胶法制备高质量化学计量LiNbO_3厚膜并表征
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Thin Solid Films 458・1/2
影响因子：
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作者：
L.Zhou;H.Ohkubo;J.Shimizu;H.Eda;M.Takahashi
通讯作者：
M.Takahashi
金属有机化学气相沉积外延LiNbO3薄膜的制备及表征
影响因子：
1.5
作者：
K. Shiratsuyu;A. Sakurai;Katsuhiko Tanaka;Y. Sakabe
通讯作者：
Y. Sakabe
沉积通量对脉冲激光沉积蓝宝石衬底上生长的LiNbO3薄膜表面粗糙度的影响
DOI：
10.1016/s0921-5107(02)00223-4
发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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作者：
Geun;B. Shin;B. Min
通讯作者：
B. Min