Nanoimprint lithography of Al nanovoids for deep-UV SERS.
Nanoimprint lithography of Al nanovoids for deep-UV SERS.
复制标题
深紫外线的Al纳米旋孢子的纳米印刷光刻。
DOI：
10.1021/am505511v
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发表时间：
2014-10-22
影响因子：
9.5
通讯作者：
Baumberg, Jeremy J.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Ding, Tao;Sigle, Daniel O.;Hermann, Lars O.;Wolverson, Daniel;Baumberg, Jeremy J.
深紫外表面增强拉曼散射（UV-SERS）是一种很有前途的生物成像和检测技术，因为许多生物分子具有紫外吸收线，导致强烈的共振拉曼散射。在这里，铝纳米孔基板的发展相结合的蚀刻聚合物/二氧化硅蛋白石薄膜的纳米压印光刻与电子束蒸发，给一个高性能的传感平台的UV-SERS。从DNA碱基腺嘌呤中获得了UV-SERS性能的3个数量级以上的增强，与UV等离子体光学特征和模拟很好地匹配，证明了其适用于生物检测。
Deep-ultraviolet surface-enhanced Raman scattering (UV-SERS) is a promising technique for bioimaging and detection because many biological molecules possess UV absorption lines leading to strongly resonant Raman scattering. Here, Al nanovoid substrates are developed by combining nanoimprint lithography of etched polymer/silica opal films with electron beam evaporation, to give a high-performance sensing platform for UV-SERS. Enhancement by more than 3 orders of magnitude in the UV-SERS performance was obtained from the DNA base adenine, matching well the UV plasmonic optical signatures and simulations, demonstrating its suitability for biodetection.
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