Characterization of Hf0.3Al0.7Ox Fabricated by Atomic-Layer-Deposition Technique Using Monoenergetic Positron Beams
Characterization of Hf0.3Al0.7Ox Fabricated by Atomic-Layer-Deposition Technique Using Monoenergetic Positron Beams
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单能正电子束原子层沉积技术制备 Hf0.3Al0.7Ox 的表征
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Yamada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A.Uedono;M.Goto;K.Higuchi;K.Shiraishi;K.Yamabe;H.Kitajima;R.Mitsuhashi;A.Horiuchi;K.Torii;T.Arikado;R.Suzuki;T.Ohdaira;K.Yamada
Ta2O5金属-绝缘体-金属电容器两种介质弛豫电流的控制
影响因子：
1.5
作者：
M. Kiyotoshi;K. Hieda;Y. Fukuzumi;Y. Kohyama;Toshiya Suzuki;D. Matsunaga;K. Hashimoto
通讯作者：
K. Hashimoto
DOI：
10.1143/jjap.34.5478
发表时间：
1995-09-01
期刊：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
影响因子：
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作者：
HORIKAWA, T;MAKITA, T;MIKAMI, N
通讯作者：
MIKAMI, N
氧化/还原对α-Al2O3单晶热释光的影响
DOI：
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发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
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作者：
G. Molnár;J. Borossay;M. Benabdesselam;P. Iacconi;D. Lapraz;K. Süvegh;A. Vértes
通讯作者：
A. Vértes