Role of electron and ion irradiation in a reliable lift-off process with e-beam evaporation and a bilayer PMMA resist system
Role of electron and ion irradiation in a reliable lift-off process with e-beam evaporation and a bilayer PMMA resist system
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电子和离子辐照在电子束蒸发和双层 PMMA 抗蚀剂系统可靠剥离过程中的作用
DOI：
10.1116/6.0001161
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
J. Knoch
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
B. Sun;T. Grap;T. Frahm;S. Scholz;J. Knoch
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影响因子：
4.6
作者：
Lai, N. S.;Lim, W. H.;Yang, C. H.;Zwanenburg, F. A.;Coish, W. A.;Qassemi, F.;Morello, A.;Dzurak, A. S.
通讯作者：
Dzurak, A. S.
影响因子：
2.2
作者：
M. Henini
通讯作者：
M. Henini
DOI：
10.1116/1.1315820
发表时间：
1970
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
E. B. Graper
通讯作者：
E. B. Graper
第 6 章 – 真空蒸发和真空沉积
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
作者：
D. M. Mattox
通讯作者：
D. M. Mattox
栅极金属化工艺对高k/In0.53Ga0.47As界面电特性的影响
DOI：
10.1116/1.3610989
发表时间：
2011
期刊：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
影响因子：
--
作者：
G. Burek;Y. Hwang;A. Carter;V. Chobpattana;J. Law;W. Mitchell;B. Thibeault;S. Stemmer;M. Rodwell
通讯作者：
M. Rodwell