Hydrogen incorporation tungsten oxide films deposited by RF plasma
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射频等离子体沉积的掺氢氧化钨薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
井上 愛知
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Inouye;S. Yamamoto;S. Nagataほか;S.Nagata ほか;永田 晋二;井上 愛知
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