Localized electro-reduction of p-type Cu2O by SECM under light irradiation
Localized electro-reduction of p-type Cu2O by SECM under light irradiation
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光照射下SECM对p型Cu2O的局域电还原
DOI：
10.1016/j.elecom.2016.10.002
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发表时间：
2016-11
影响因子：
5.4
通讯作者：
Hu Ji-Ming
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zhou Jin-He;Zhao Ji-Peng;Wu Lian-Kui;Hu Ji-Ming
本工作报告了一种新的方法来图案化铜纳米粒子的CuO基板上的光电还原反应的援助下，在直接模式的扫描电化学显微镜。这个概念是基于局部阴极电流通量时产生的负电位和光照射p型半导体。图案可以通过修改沉积电位，持续时间和照明强度来调整，并已通过扫描电子显微镜，能量色散X射线分析和显微拉曼光谱进行了表征。
This work reports a novel approach to patterning copper nanoparticles on a Cu2O substrate by a photo-electroreduction reaction with the aid of scanning electrochemical microscopy in direct mode. The concept is based on the localized cathodic current flux produced when applying both negative potentials and light irradiation to p-type semiconductors. The patterns can be tuned by modifying the deposition potential, duration time and illumination intensity, and have been characterized by scanning electron microscopy, energy-dispersive X-ray analysis and micro-Raman spectroscopy.
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