Surface coating with various metals on spherical polymer particles by using barrel sputtering technique
Surface coating with various metals on spherical polymer particles by using barrel sputtering technique
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利用桶溅射技术在球形聚合物颗粒上表面涂覆各种金属
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akira Taguchi et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Nakayama;S.Goto;Y.Uchimoto;M.Wakihara;Y.Kitajima;T.Miyanaga;I.Watanabe;Yoshiharu Uchimoto 他;M.Ishikawa;M.Ishikawa;M.Morita;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;M.Ishikawa;I.Murayama;M.Ishikawa;M.Ishikawa;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Takayuki Abe et al.;Masanori Hara et al.;Takayuki Abe et al.;北見知士 他;Tomohito kitami et al.;Takayuki Abe et al.;N.Kumada et al.;Akira Taguchi et al.
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金属化塑料1
DOI：
10.1007/978-1-4899-0879-7
发表时间：
1989
期刊：
--
影响因子：
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作者：
K. Mittal;J. Susko
通讯作者：
J. Susko
薄膜处理：J L Vossen 和 W Kern 编辑，Academic Press，纽约，1978 年，564 页。价格：32.15 英镑，49.50 美元
影响因子：
4
作者：
W. Steckelmacher
通讯作者：
W. Steckelmacher
利用桶溅射系统在小SiO2颗粒表面涂覆TiO_2薄层。
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Thin Solid Films 513
影响因子：
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作者：
M.Nakayama;S.Goto;Y.Uchimoto;M.Wakihara;Y.Kitajima;T.Miyanaga;I.Watanabe;Yoshiharu Uchimoto 他;M.Ishikawa;M.Ishikawa;M.Morita;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;M.Ishikawa;I.Murayama;M.Ishikawa;M.Ishikawa;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Satoshi Akamaru et al.
通讯作者：
Satoshi Akamaru et al.
滚筒溅射法在小SiO2颗粒表面沉积WO_3薄膜
DOI：
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发表时间：
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期刊：
Journal of Alloys and Compounds (in press)
影响因子：
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作者：
M.Nakayama;S.Goto;Y.Uchimoto;M.Wakihara;Y.Kitajima;T.Miyanaga;I.Watanabe;Yoshiharu Uchimoto 他;M.Ishikawa;M.Ishikawa;M.Morita;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;M.Ishikawa;I.Murayama;M.Ishikawa;M.Ishikawa;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Takayuki Abe et al.;Masanori Hara et al.;Takayuki Abe et al.;北見知士 他;Tomohito kitami et al.;Takayuki Abe et al.;N.Kumada et al.;Akira Taguchi et al.;Akira Taguchi et al.;Mitsuhiro Inoue et al.;Takayuki Abe et al.
通讯作者：
Takayuki Abe et al.
影响因子：
6.2
作者：
Abe, T;Akamaru, S;Honda, Y
通讯作者：
Honda, Y