Sub-microns period grating couplers fabricated by silicon mold
Sub-microns period grating couplers fabricated by silicon mold
复制标题
硅模具制造的亚微米周期光栅耦合器
DOI：
10.1016/s0030-3992(01)00088-3
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发表时间：
2001-11
影响因子：
5
通讯作者：
陈迪
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
李以贵;陈迪
介绍了一种适用于制作光波导微周期结构的新的简单工艺。该模具采用电子束光刻和快原子束刻蚀的方法制作。亚微米尺度的图形从硅模转移到聚合物层。利用该模具和普通光学掩模制作了光栅耦合器。该方法不需要压印光刻所需的压印机，并且可以复制出高深宽比的模具结构。实验耦合效率约为25%。该技术还可用于制造其他纳米级结构。
This paper describes a novel simple process suitable for fabrication of micro-periodic structure in optical waveguide. The mold was fabricated using electron beam lithography and fast atom beam etching. Sub-micron-scale patterns were transferred from silicon mold to polymer layer. Grating coupler was fabricated by the mold and normal optical mask. In the proposed method, no press which is needed for imprint lithography is required and the mold structure can be duplicated with high aspect ratio. Experimental coupling efficiency is about 25%. This technique can also be used to fabricate other nanometer-scale structures.
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