Stabilization of deposition rate of Mn oxide films by using SUS cell
Stabilization of deposition rate of Mn oxide films by using SUS cell
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使用SUS电池稳定Mn氧化膜的沉积速率
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Fujiyasu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Isai;Y. Nagashio;T. Tatei;H. Fujiyasu
反应蒸发过程中锰蒸发物与氧气氛隔绝的新技术
影响因子：
1.5
作者：
M. Isai;T. Shimada;T. Matsui;H. Fujiyasu
通讯作者：
H. Fujiyasu
反应蒸发条件下锰沉积速率的优先顺序
影响因子：
1.5
作者：
M. Isai;H. Ichikawa;T. Shimada;K. Morimoto;H. Fujiyasu;Yasumitsu Ito
通讯作者：
Yasumitsu Ito