Formation of graphite re-deposition layer by hydrogen RF plasma

Formation of graphite re-deposition layer by hydrogen RF plasma
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氢射频等离子体形成石墨再沉积层

DOI:
--
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发表时间:
2004
期刊:
Thin Solid Film Vol.457
影响因子:
--
通讯作者:
M.Nishikawa
M.Nishikawa
中科院分区:
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文献类型:
--
作者:
K.Katayama;H.Nagase;Y.Manabe;Y.Kodama;T.Takeishi;M.Nishikawa

文献摘要

参考文献

被引文献

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