Ferroelectricity of 20-nm Thick (Al0.8Sc0.2)N Thin Films with TiN Electrodes
Ferroelectricity of 20-nm Thick (Al0.8Sc0.2)N Thin Films with TiN Electrodes
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带 TiN 电极的 20 nm 厚 (Al0.8Sc0.2)N 薄膜的铁电性
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Funakubo Hiroshi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ota Reika;Yasuoka Shinnosuke;Mizutani Ryoichi;Shiraishi Takahisa;Kakushima Kuniyuki;Funakubo Hiroshi
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影响因子：
1.5
作者：
Tsai, Sung-Lin;Hoshii, Takuya;Kakushima, Kuniyuki
通讯作者：
Kakushima, Kuniyuki
影响因子：
4
作者：
Yazawa, Keisuke;Drury, Daniel;Brennecka, Geoff L.
通讯作者：
Brennecka, Geoff L.
影响因子：
4.6
作者：
Nishino, Ryutaro;Fujita, Takahiro C.;Kawasaki, Masashi
通讯作者：
Kawasaki, Masashi
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
Physica Status Solidi (a)
影响因子：
--
作者：
Georg Schönweger;Md. Redwanul Islam;N. Wolff;A. Petraru;L. Kienle;H. Kohlstedt;S. Fichtner
通讯作者：
S. Fichtner
影响因子：
1.1
作者：
Shinnosuke Yasuoka;R. Mizutani;Reika Ota;T. Shiraishi;Takao Shimizu;S. Yasui;Yoshitaka Ehara;K. Nishida;M. Uehara;Hiroshi Yamada;M. Akiyama;Y. Imai;O. Sakata;H. Funakubo
通讯作者：
Shinnosuke Yasuoka;R. Mizutani;Reika Ota;T. Shiraishi;Takao Shimizu;S. Yasui;Yoshitaka Ehara;K. Nishida;M. Uehara;Hiroshi Yamada;M. Akiyama;Y. Imai;O. Sakata;H. Funakubo